阿斯麦（ASML）计划在2027年和2028年提高半导体制造设备产量，显示其需求可见度异常长远。据分析师透露，阿斯麦正考虑在2027年将极紫外（EUV）光刻机产量提高约30%，2028年再提高约30%，原因是客户已下达大量订单。这一超长的需求可见度强化了半导体供不应求或将持续很长时间的判断，对美光、SK海力士等存储及逻辑芯片厂商同样构成利好。
